反射膜厚仪 FT100

超高精度的反射式膜厚仪

反射膜厚仪 FT100

便于携带

高速测量

高精度

无损测量

多类解析算法

软件易用

产品描述

紧凑型反射式膜厚仪测量系统,初学者也能轻松上手解析,单点对焦并测量耗时1秒内完成,支持薄膜到厚膜、单层到多层薄膜分析。用于表征介质保护膜、半导体薄膜、玻璃镀膜等各种样式薄膜膜厚的光学计量专业化工具。

产品功能

膜层厚度无损测量.png


膜层厚度无损测量

避免传统接触式测量(如台阶仪)可能造成的划伤或形变。

多层摸测量.png


支持单层、多层膜测量

通过干涉条纹间距或反射率极值点直接计算厚度。

膜层折射率无损测量.png


便携式设计

模块化探头,紧凑机身,产线快速抽检。

曲面测量.png


支持平面曲面测量

通过可变入射角设计或曲面补偿算法(如修正光程差),测量圆柱透镜、球面镜等。

多种状态薄膜.png


可测多种状态薄膜

如SiO₂、光刻胶、PET薄膜,可通过多峰干涉解析各层厚度。

参数调整测量.png


支持参数调整测量

用户可保存不同材料的测量模板,提升批量检测效率。

产品特点

1.高精度、高稳定性

2.光学干涉方式,无损测量

3.多类解析算法,可精准和估算测量,满足不同测量需要

4.高速测量,绝大多数样品可1s内完成测量

5.软件简洁,测量一键操作,简单易用

6.机型结构小巧,轻质化设计,便于携带


三视图
  • 正视图

    正视图

  • 侧视图

    侧视图

  • 后视图

    后视图

  • 正视图

    正视图

  • 侧视图

    侧视图

  • 后视图

    后视图

技术参数
波长范围400-850nm
测量范围(光学厚度)50nm-80μm
测量重复性(RMS)0.4nm

测量绝对精度(与椭偏仪对比)

2nm或0.4%(以最大值为准)
入射角度90°
光斑尺寸标准1.5mm
测量时间4ms-100ms
基片测量范围100mm,360°
通信接口USB3.0


检测案例
  • PVA膜检测

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  • 硅上镀二氧化硅膜

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